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MÜNCHEN (dpa-AFX) - Der Halbleiter-Hersteller Infineon Technologies AG ist auf dem Weg zur Massenproduktion eines möglichen Silizium-Nachfolgers für die Chip-Herstellung nach eigenen Angaben einen entscheidenden Schritt weitergekommen. Erstmals sei es Infineon (Xetra: 623100.DE - Nachrichten - Forum) -Forschern gelungen, ANZEIGE
so genannte Carbon-Nano-Tubes - winzige Röhren auf Basis des chemischen Elements Kohlenstoff - an vordefinierten Stellen auf einem Trägermedium wachsen zu lassen, teilte der Konzern am Donnerstag in München mit. Infineon rechnet damit, dass diese Röhren frühestens 2005 erstmals in seinen Chip-Entwicklungen eingesetzt werden.
Mit einem in der Mikroelektronik weit verbreiteten Verfahren sei es möglich, in naher Zukunft die Eigenschaften der Nano-Röhren in bestehende Fertigungsprozesse einzubinden und für die Entwicklung verbesserter Integrierter Schaltkreise (ICs, Integrated Circuits) zu nutzen.
Für die Halbleiterindustrie böten die Kohlenstoff-Nanoröhren interessante Eigenschaften, das dieses Material sie zum möglichen Nachfolger des heutigen Siliziums mache. Carbon-Nano-Tubes verfügen nach den Angaben über eine extrem hohe Stromleitfähigkeit und ertragen Stromdichten, bei denen Kupfer schon längst schmelzen würde. Darüber hinaus fließe der Strom durch die Nano-Röhren fast ohne jede Reibung./bi/sh
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